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永祥多晶硅专利获第十九届中国专利奖优秀奖

发布时间:2017年12月29日    

近日,由国家知识产权局和世界知识产权组织共同主办的第十九届中国专利奖颁奖大会在北京隆重举行。国家知识产权局局长申长雨、世界知识产权组织副总干事王彬颖出席大会并讲话。会上,永祥多晶硅研发的“三氯氢硅还原工艺控制方法”专利技术被国家知识产权局授予“专利奖优秀奖”称号。

永祥多晶硅“三氯氢硅还原工艺控制方法”专利技术获中国专利奖优秀奖_副本.jpg

永祥多晶硅获中国专利奖优秀奖

中国专利奖是我国唯一的专门针对授予专利权的发明创造给予奖励的政府部门奖,得到联合国世界知识产权组织(WIPO)的认可,在国际上有一定的影响。截止目前,乐山市仅有2项专利获得该奖项,永祥便是其中之一。

近年来,永祥多晶硅技术发展取得了累累硕果,助推了企业的快速发展,也得到了各级部门高度认可和赞扬,相关负责人表示,在接下来的知识产权工作中,永祥多晶硅将继续推行高质量专利技术,同时贯彻标准化管理,在生产经营中坚持科技创新,保持技术指标的领先性,进一步提升企业竞争力。

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